機(jī)械密封常見(jiàn)沖洗方案

一、水泵機(jī)械密封沖洗冷卻的種類(lèi)較多，常用的沖洗冷卻方式有：

　　1、自沖洗，沖洗介質(zhì)由泵的出口端通過(guò)接管引入密封腔。

　　2、反沖洗，沖洗介質(zhì)由泵的入口端通過(guò)接管引入密封腔進(jìn)行反沖洗。

　　3、貫穿沖洗，把自沖洗和反沖洗兩者結(jié)合起來(lái)的結(jié)構(gòu)稱(chēng)為貫穿沖洗。

　　4、外沖洗，是把外系統(tǒng)有壓力的介質(zhì)通入密封腔中，改沖洗介質(zhì)與密封腔內(nèi)介質(zhì)相同，或?qū)に嚿a(chǎn)沒(méi)有影響的介質(zhì)。
　　除了上述幾種沖洗冷卻方式以外，還常采用的一種沖洗冷卻方式為局部循環(huán)沖洗冷卻。該種沖洗方式是借助于泵送葉輪，使密封腔內(nèi)介質(zhì)進(jìn)行循環(huán)，帶走端面摩擦熱。該種方法適用于當(dāng)泵進(jìn)、出口壓差很小的場(chǎng)合時(shí)。
　　以上沖洗方式都是利用壓力差使介質(zhì)流動(dòng)而達(dá)到?jīng)_洗冷卻的目的。具體采用什么方法，需要根據(jù)壓力、溫度等情況而定。如一般單級(jí)離心泵，密封腔壓力小于泵出口壓力而大于進(jìn)口壓力時(shí)，采用自沖洗冷卻或反沖洗冷卻均可。當(dāng)密封腔采用自沖洗冷卻。當(dāng)密封腔壓力與進(jìn)出口壓力相接近時(shí)，則可采用貫穿沖洗冷卻。密封介質(zhì)溫度較高時(shí)，可采用外沖洗冷卻。
　　二、水泵機(jī)械密封API682標(biāo)準(zhǔn)沖洗方案：

    PLAN11出口自沖洗：介質(zhì)由泵的出口經(jīng)管線進(jìn)入機(jī)械密封實(shí)施沖洗。

    適用情況：

    1、清潔介質(zhì)（介質(zhì)本身須清潔）

    2、介質(zhì)溫度不高于110℃

    3、泵進(jìn)出口間的壓差不能大于10Bar（大于10Bar。則需設(shè)節(jié)流閥）

    PLAN13入口自沖洗：介質(zhì)由入口經(jīng)管線進(jìn)入機(jī)封實(shí)現(xiàn)液體的循環(huán)流動(dòng)

    適用情況：

    1、泵進(jìn)出口壓力差大于10Bar

    2、清潔介質(zhì)

    3、介質(zhì)溫度不高于110℃

    PLAN21出口冷卻自沖洗：介質(zhì)由泵的出口經(jīng)冷卻器降溫后，再進(jìn)入機(jī)械密封，實(shí)現(xiàn)對(duì)密封的冷卻。

    適用情況：

    1、介質(zhì)溫度高于110℃

    2、清潔介質(zhì)

    PLAN52不加壓冷卻方式：利用壓力小于工藝流體壓力但不低于大氣壓力的阻隔流體，注入密封室中。由于隔流體壓力小于工藝流體壓力，少量工藝流體泄漏至阻隔流體中，被阻隔流體出密封室，到密封系統(tǒng)或放空系統(tǒng)中進(jìn)行處理，從而避免工藝流體的直接排放大氣和環(huán)境的污染。

    技術(shù)要求：

    1、低壓阻隔流體防止?jié)B漏，但阻隔液壓力不得低于0.7公斤/厘米

    2、阻隔流體須清潔，潤(rùn)滑，且和介質(zhì)相溶

    3、阻隔流體的流向應(yīng)與軸的旋向相同

    適應(yīng)場(chǎng)合： 低沸點(diǎn)、易汽化的介質(zhì) 危險(xiǎn)品

    不允許介質(zhì)被污染的制藥行業(yè)

    PLAN53加壓冷卻方式：利用壓力大于工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由于阻隔流體壓力大于工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的泄漏，從而有效地防止工藝流對(duì)大氣和環(huán)境的污染。

    技術(shù)要求:

    1、阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1-2公斤/厘米

    2、阻隔流體須清潔，潤(rùn)滑，且和介質(zhì)相溶

    3、阻隔流體的流向應(yīng)與軸的旋向相同

    適應(yīng)場(chǎng)合：   易結(jié)晶或固化的介質(zhì) 易聚合介質(zhì)　常溫含顆粒的介質(zhì)

    PLAN54加壓冷卻方式：利用加壓泵給阻隔流體加壓，壓力比工藝流體壓高1-2公斤/厘米2一方面，提高阻隔流體的循環(huán)速度，加快對(duì)密封面的冷卻；另一方面，阻止工藝流體通過(guò)內(nèi)側(cè)密封向阻隔流體系統(tǒng)的泄漏，避免工藝流體對(duì)大氣和環(huán)境的污染。

    技術(shù)要求：

    1、阻隔流體壓力比密封腔內(nèi)工藝流體壓力高1-2公斤/厘米

    2、阻隔流體須清潔，潤(rùn)滑，且和介質(zhì)相溶

    3、阻隔流體的流向應(yīng)與軸的旋向相同

    適應(yīng)場(chǎng)合：高溫含顆粒的介質(zhì)